[发明专利]一种基于SOI量子线的单电子晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 200710064857.X 申请日: 2007-03-28
公开(公告)号: CN101276836A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: 王琴;李维龙;贾锐;刘明;叶甜春 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L29/772 分类号: H01L29/772;H01L21/336
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周长兴
地址: 100029*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于SOI量子线的单电子晶体管及其制作方法。本发明的主要特征是在SOI衬底上制备量子线,利用金属栅对量子线的势垒受限形成隧道结和库仑岛,从而降低了微纳加工的难度,实现隧道结有效尺寸可调的单电子晶体管。其主要工艺步骤如下:(a)离子注入及快速退火;(b)电子束光刻,形成量子线图形;(c)干法刻蚀,将图形转移至SOI的顶层硅上;(d)光刻;(e)蒸发金属,剥离,合金;(f)二次电子束套刻,形成栅图形;(g)蒸发栅金属;(h)剥离,形成金属栅;采用本发明方法制备的基于SOI量子线的单电子晶体管具有工艺难度低,可实行性高,易于大规模集成的优点。
搜索关键词: 一种 基于 soi 量子 电子 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
1. 一种基于SOI量子线的单电子晶体管,包括:基于SOI衬底量子线;包裹在量子线上的两个金属栅;以及一个金属侧栅三部分;该单电子器件的隧道结是由包裹在SOI量子线上的金属栅和SOI量子线接触处的势垒受限形成,同时两个金属栅之间的SOI量子线部分构成库仑岛;通过调节侧栅的电压来调节库仑岛的静电势,使得电子通过库仑岛。
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