[发明专利]一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备有效

专利信息
申请号: 200710064861.6 申请日: 2007-03-28
公开(公告)号: CN101274742A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: 石莎莉;陈大鹏;景玉鹏;欧毅;叶甜春 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: B81C5/00 分类号: B81C5/00;H01L21/306
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100029*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备,尤指一种对MEMS体硅腐蚀设备——恒温腐蚀设备和恒温加超声腐蚀设备的缺陷加以改进的体硅腐蚀配套设备。本发明中,被固定的腐蚀槽的底部设有与具有开关的导流管的一端连通的开口,导流管的另一端连接到腐蚀液容器,且放置硅片的石英架固定在腐蚀槽的靠近敞口的位置;所述腐蚀槽的内部空间呈几何对称,且腐蚀槽的竖直对称轴通过所述腐蚀槽底部开口的中心;所述石英架上放置有硅片时,硅片的中心对称轴与所述腐蚀槽的竖直对称轴重合。本发明还可以在所述腐蚀槽中在硅片两侧对称地设置有加热器。由此,在硅片两侧可以形成对称的水流流速场和压力场,并可以避免对硅片的不必要的热冲击。
搜索关键词: 一种 水流 冲击 腐蚀 配套 设备
【主权项】:
1. 一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备,包括腐蚀槽、支撑装置、导流管、腐蚀液容器和用于放置硅片的石英架,所述支撑装置用于竖直固定所述腐蚀槽,且所述腐蚀槽槽口向上;所述导流管具有开关,一端与设置在腐蚀槽底部的开口连通,另一端连接到所述腐蚀液容器;所述石英架设置于腐蚀槽的内部空间,其特征在于:所述腐蚀槽的内部空间在竖直方向上呈几何对称,且腐蚀槽内部空间的竖直对称轴通过所述底部开口的中心;所述石英架上在放置有硅片时,硅片在竖直方向上的中心对称轴与所述腐蚀槽内部空间的竖直对称轴重合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710064861.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top