[发明专利]一种校正透镜成像不均一性、提取透镜参数的方法及装置有效
申请号: | 200710065174.6 | 申请日: | 2007-04-05 |
公开(公告)号: | CN101051117A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | 沈操;王浩 | 申请(专利权)人: | 北京中星微电子有限公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G06T5/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100083北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用图像处理手段校正透镜成像不均一性的方法及装置以及提取透镜参数的方法及装置,用以解决现有技术中用光学方法改变透镜的特性存在的工艺复杂、成本高的问题。校正透镜成像不均一性的方法包括以下步骤:获取透镜所成的扭曲图像;根据校正参数对扭曲图像进行操作,得到校正图像,所述校正参数是依据透镜参数得到的,所述透镜参数是由透镜的特性决定的。 | ||
搜索关键词: | 一种 校正 透镜 成像 不均一性 提取 参数 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种校正透镜成像不均一性的方法,其特征在于,包括步骤:获取透镜所成的扭曲图像;根据校正参数对扭曲图像进行操作,得到校正图像,所述校正参数是依据透镜参数得到的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中星微电子有限公司,未经北京中星微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710065174.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。