[发明专利]甘蔗良种双芽单行稀播繁殖方法无效
申请号: | 200710066472.7 | 申请日: | 2007-12-17 |
公开(公告)号: | CN101180932A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 刘少春;张跃彬;尹兴祥 | 申请(专利权)人: | 云南省农业科学院甘蔗研究所 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
代理公司: | 昆明正原专利代理有限责任公司 | 代理人: | 陈左 |
地址: | 661600云*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种甘蔗良种双芽单行稀播繁殖方法,通过改变传统的多芽双行接顶下种方式为双芽单行稀播下种方式,每亩下种量4000-5000芽,折合蔗茎0.4-0.5吨/亩,种植行距90-110cm,深30-40cm,沟底宽20-30cm,种苗双芽单行平植沟底,用细土覆盖2-5cm,再用宽45cm,厚0.008cm的地膜覆盖;通过利用地膜覆盖保湿增温的作用,促进早萌发出苗、早分蘖、早生长,提高萌发出苗率,充分利用甘蔗分蘖的生物学特性增殖单位面积蔗株数量,促进单株生长,达到增加单位面积蔗株数量和单株有效蔗芽数量,提高甘蔗种芽繁殖倍数的目的;与传统常规繁殖相比,繁殖倍数提高2倍以上,每亩节省种芽5000-6000芽,相当于每亩节省蔗茎用种量500-600千克。 | ||
搜索关键词: | 甘蔗 良种 单行 繁殖 方法 | ||
【主权项】:
1.一种甘蔗良种双芽单行稀播繁殖方法,每亩下种量4000~5000芽,折合蔗茎0.4~0.5吨/亩,种植行距90~110cm,沟深30~40cm,沟底宽20~30cm,种苗双芽单行平植沟底,用细土覆盖2~5cm,再用宽45cm,厚0.008cm的地膜覆盖。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南省农业科学院甘蔗研究所,未经云南省农业科学院甘蔗研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710066472.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于计算机视觉的违章停车检测装置
- 下一篇:双色冰淇淋西瓜的栽培方法