[发明专利]一种Si/SnO2异质结电致发光器件及其制备方法无效
申请号: | 200710068640.6 | 申请日: | 2007-05-15 |
公开(公告)号: | CN101060155A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 杨德仁;袁志钟;李东升 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 韩介梅 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开的Si/SnO2异质结电致发光器件,在硅片的抛光面自下而上依次沉积有SnO2薄膜层和掺锡氧化铟导电薄膜层,硅片的另一面沉积有金属薄膜层。制备步骤如下:利用电子束蒸发在p型硅片的抛光面上沉积金属锡薄膜;在氧气气氛下进行氧化处理,使金属锡薄膜转变成SnO2薄膜;采用磁控溅射或电子束蒸发的方法在硅片的另一面沉积金属薄膜层;以氩气和氧气为溅射反应气体,在SnO2薄膜表面沉积掺锡氧化铟导电薄膜。本发明在硅基体上以二氧化锡薄膜为发光薄膜,具有更高的化学和机械稳定性,强的缺陷发光,本发明制备方法简单可控,成本低廉,掺锡氧化铟电极中含有SnO2相,可以和SnO2薄膜形成良好的电接触。本发明器件可以作为硅基发光器件。 | ||
搜索关键词: | 一种 si sno sub 异质结 电致发光 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种Si/SnO2异质结电致发光器件,其特征是在硅片(1)的抛光面自下而上依次沉积有SnO2薄膜层(2)和掺锡氧化铟导电薄膜层(3),硅片的另一面沉积有金属薄膜层(4)。
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