[发明专利]一种ZnO量子点的制备方法无效
申请号: | 200710071442.5 | 申请日: | 2007-09-26 |
公开(公告)号: | CN101275073A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 黄靖云;陈玲;叶志镇 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C09K11/54 | 分类号: | C09K11/54 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 张法高 |
地址: | 310027*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种ZnO量子点的制备方法。它首先对衬底进行表面处理,然后在去离子水中用提拉法形成单层自组装的纳米球,作为制备ZnO量子点所用的模板;接着在25~100℃之间、真空度为10-4~10-6Torr的条件下,通过电子束蒸发沉积一层5nm~50nm厚的ZnO薄膜;最后在甲苯中浸泡并超声振动2~5min把模板中的纳米球去掉即可。本发明制备的ZnO量子点生长面积大、排列整齐且尺寸、分布均匀。该制备方法简便经济、可高效的制备出较大范围的有序的ZnO量子点。ZnO氧化物半导体带隙宽、直接能带跃迁并且激子束缚能大,再加上量子点的量子限域效应,使ZnO量子点材料成为高效量子点激光器乃至纳米激光器的希望。 | ||
搜索关键词: | 一种 zno 量子 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种ZnO量子点的制备方法,其特征在于:首先在表面处理过的衬底上用提拉法形成单层自组装的纳米球,作为制备ZnO量子点所用的模板;然后在室温~100℃、真空度为10-4~10-6Torr的条件下,通过电子束蒸发沉积一层5nm~50nm厚的ZnO薄膜;最后在甲苯中浸泡并超声振动2~5min把模板中的纳米球去掉即可。
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