[发明专利]电沉积蒙乃尔合金镀层的方法无效
| 申请号： | 200710071677.4 | 申请日： | 2007-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101029407A | 公开（公告）日： | 2007-09-05 |
| 发明（设计）人： | 李宁;胡会利;屠振密;赵夫刚 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C25D3/56 | 分类号： | C25D3/56 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人： | 单军 |
| 地址： | 150001黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 电沉积蒙乃尔合金镀层的方法，本发明涉及制备蒙乃尔合金镀层的方法。它为了解决原有方法制备的蒙乃尔合金镀层中杂质含量高及镀层成品率低的问题，而提出的一种电沉积蒙乃尔合金镀层的方法。制备方法：配制溶液，熟化得到镀液，电镀，得到蒙乃尔合金镀层。一种电沉积蒙乃尔合金镀层的方法。制备方法：配制主盐溶液，加入耐蚀添加剂、阳极活化剂、缓冲剂后活性炭处理，加入络合促进剂、光亮剂、润湿剂，加水至1l，熟化后过滤，电解制备镀液，电镀，得到蒙乃尔合金镀层。本发明制备的蒙乃尔合金镀层中元素的质量百分比为70～75％的Ni、25～30％的Cu和余量杂质。 | ||
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【主权项】：
1、电沉积蒙乃尔合金镀层的方法，其特征在于电沉积蒙乃尔合金镀层的方法通过以下步骤实现：(一)在搅拌情况下，将43.03～325.18g分析纯级的NiSO4·7H2O和2.97～27.27g分析纯级的CuSO4·5H2O加入到装有700ml水的烧杯中充分溶解后加入1.28～51.8g的洛合促进剂，待络合促进剂完全溶解加水至1L；(二)熟化2～4h，得到镀液；(三)以蒙乃尔合金为阳极、电沉积基底为阴极、在阴极移动频率10～15次/分钟、镀液温度为35～45℃、阴极电流密度为1～3A/dm2、阳极电流密度为0.5～2A/dm2的条件下进行电镀15～50分钟，得到银白色亚光的蒙乃尔合金镀层。
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