[发明专利]膜厚测量装置有效
| 申请号： | 200710079402.5 | 申请日： | 2007-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN101033935A | 公开（公告）日： | 2007-09-12 |
| 发明（设计）人： | 细川理彰 | 申请（专利权）人： | 奈普森株式会社 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06;G01R27/02;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;尚志峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种膜厚测量装置，通过简单的构成，对长带状或长大形的检查试样容易、且准确地进行膜厚的测量。该膜厚测量装置用于对于在聚酯薄膜(11)上形成导电性薄膜的检查试样测量该导电性薄膜的膜厚。其包括：检查头(10)，在辊式检查部(2)中，面对上述聚酯薄膜(11)的表面，在相隔设定的间隙的状态下被保持；以及隔离膜(14)，在介于上述聚酯薄膜(11)的导电性薄膜和上述检查头(10)之间的状态下，被设置在辊式检查部(2)的外周上，同时直接或者间接地接触上述导电性薄膜，并将该导电膜和上述检查头(10)之间的间隔保持为设定的间隔。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.一种膜厚测量装置，对于在基材上形成导电性薄膜的检查试样，测量该导电性薄膜的膜厚，其特征在于，包括：检查头，相对于所述检查试样的表面，在相隔设定的间隔的状态下保持所述检查头；以及隔离膜，介于所述检查试样的导电性薄膜和所述检查头之间，同时，通过与所述导电性薄膜直接或者间接地接触，而将该导电性薄膜和所述检查头之间的间隔保持为设定的间隔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奈普森株式会社，未经奈普森株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710079402.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种固载了敌草隆抗体免疫分离材料的制备方法
- 下一篇：折页牵引辊伺服驱动装置
