[发明专利]用于化学机械抛光的三维网络结构有效
| 申请号： | 200710084080.3 | 申请日： | 2007-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101024277A | 公开（公告）日： | 2007-08-29 |
| 发明（设计）人： | G·P·马尔多尼 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D17/00 | 分类号： | B24D17/00;B24B29/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 郭辉 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 抛光垫(104)用于在抛光介质(120)存在下抛光磁性、光学和半导体基材(112)中至少一种。抛光垫(104)包括互连单元(225)的三维网络结构。互连单元(225)是网状的，便于流体流动和除去抛光碎屑。许多抛光元件(208，308和408)形成互连单元(225)的三维网络结构。抛光元件(208，308和408)具有在第一接合处(209，309和409)连接到第一相邻抛光元件的第一末端，和在第二接合处(209，309和409)连接到第二相邻抛光元件的第二末端，并在第一和第二接合处(209，309和409)之间的横截面积为30％。由许多抛光元件(208，308和408)形成的抛光表面(200，300和400)与多次抛光操作保持一致。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 三维 网络 结构 | ||
【主权项】：
1.一种用于在抛光介质存在下抛光磁性、光学和半导体基材中至少一种的抛光垫，所述抛光垫包括：a)互连单元的三维网络结构，所述互连单元是网状的，便于流体流动，并除去抛光碎屑；b)形成互连单元的三维网络结构的许多抛光元件，所述互连单元的高度至少为三个单元，所述抛光元件具有在第一接合处连接到第一相邻抛光元件的第一末端，和在第二接合处连接到第二相邻抛光元件的第二末端，并且在第一和第二接合处之间具有30％以内的横截面积；和c)由多个抛光元件形成的抛光表面，在平行于抛光表面的平面上测得的所述抛光表面的表面积与多次抛光操作保持一致。
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