[发明专利]用于炉的基座无效
| 申请号： | 200710084731.9 | 申请日： | 2007-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101029797A | 公开（公告）日： | 2007-09-05 |
| 发明（设计）人： | T·R·坎斯梅尔 | 申请（专利权）人： | ASM国际公司 |
| 主分类号： | F27D5/00 | 分类号： | F27D5/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 荷兰比*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基座，其用于在半导体加工过程中在处理室中支撑晶片舟。该基座含中空的空间，如内部多孔绝缘塞和基座内的气体可在半导体处理过程中膨胀。基座具有用于将气体排出其内部从而进入处理室的孔。该孔提供有过滤器，其形式为密封在罩住该孔的管子中的烧结陶瓷或玻璃盘，从而防止可能出现在基座内的颗粒通过。通过过滤颗粒，过滤器除去污染源，从而允许处理室中处理的晶片有高质量的处理结果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基座 | ||
【主权项】：
1.一种用于在半导体处理炉子的处理室中支撑放置的晶片舟的基座，所述基座包括：限定所述基座壁的套子；所述套子表面上的外孔；和经配置来过滤通过所述孔的气流的颗粒过滤器。
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