[发明专利]光刻装置、控制系统和器件制造方法有效
| 申请号： | 200710085566.9 | 申请日： | 2007-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101038443A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | M·A·范德科霍夫;J·H·W·乔科布斯;T·尤特迪克;N·A·拉勒曼特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻装置，其包括测量系统或预测系统，分别用于测量和/或预测与浸液的温度波动相关的影响；还包括控制系统，用于分别根据由测量系统和/或预测系统获得的测量结果和/或预测结果来控制与浸液相关的所述影响或其它影响。还公开了一种相关的控制系统和器件制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 控制系统 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：基底台，用于保持基底；投影系统，用于将图案化辐射束投影到该基底的靶部上；液体供给系统，用于用液体填充投影系统与基底之间的空间；测量系统、预测系统或者这两种系统，分别用于测量和/或预测与该液体的温度波动相关的影响；和控制系统，用于根据分别由测量系统和/或预测系统获得的测量结果和/或预测结果来控制与该液体的温度相关的所述影响或其它影响。
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