[发明专利]防反射结构、防反射模制体及其制造方法以及汽车部件无效

专利信息
申请号: 200710085623.3 申请日: 2007-03-01
公开(公告)号: CN101034165A 公开(公告)日: 2007-09-12
发明(设计)人: 野口雄司;福井孝之 申请(专利权)人: 日产自动车株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;B29C45/26;G02B1/04;B29L11/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 王景刚;王冉
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了一种防反射结构,包括:以比可见光线的波长短的间距布置的多个凸起部分,每个所述凸起部分形成为基本上截头锥体和基本上截头棱锥体中的一种,每个所述凸起部分包括:i)形成为底圆和内接于该底圆中的底多边形二者之一的底表面,a)所述底圆和b)外接所述底多边形的所述底圆各自具有满足以下表达式的底直径Db:100nm<Db<380nm,ii)形成为上圆和内接于该上圆中的上多边形二者之一的上表面,a)所述上圆和b)外接所述上多边形的所述上圆各自具有满足以下表达式的上直径Du:5nm<Du<50nm。
搜索关键词: 反射 结构 模制体 及其 制造 方法 以及 汽车部件
【主权项】:
1、一种防反射结构,包括:以比可见光线的波长短的间距布置的多个凸起部分,每个所述凸起部分形成为基本上截头锥体和基本上截头棱锥体中的一种,每个所述凸起部分包括:i)形成为底圆和内接于该底圆中的底多边形二者之一的底表面,a)所述底圆和b)外接所述底多边形的所述底圆各自具有满足以下表达式的底直径Db: 100nm<Db<380nm,ii)形成为上圆和内接于该上圆中的上多边形二者之一的上表面,a)所述上圆和b)外接所述上多边形的所述上圆各自具有满足以下表达式的上直径Du: 5nm<Du<50nm。
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