[发明专利]垂直磁记录磁头及其制造方法无效
申请号: | 200710086276.6 | 申请日: | 2007-03-13 |
公开(公告)号: | CN101042873A | 公开(公告)日: | 2007-09-26 |
发明(设计)人: | 冈田智弘;布川功;江藤公俊;楠川喜久雄 | 申请(专利权)人: | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
主分类号: | G11B5/127 | 分类号: | G11B5/127 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李涛;钟强 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 在主磁极周围设置尾侧屏蔽和高精确度地控制其尾侧上的间隙长度,以便增加记录磁场梯度。在主磁极12上设置刻蚀信号层16,当检测到来自该层的信号时,通过停止离子铣削,来高精确度地控制主磁极的尾侧上的间隙长度。 | ||
搜索关键词: | 垂直 记录 磁头 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制造垂直磁记录磁头的方法,该垂直磁记录磁头具有主磁极、返回磁极和布置在所述主磁极的尾侧上的尾屏蔽,该方法包括:用于在上部中形成具有刻蚀信号层的主磁极的工序;用于在上部中利用非磁性间隙层来覆盖具有刻蚀信号层的主磁极的顶部和侧面的工序;用于抛光所述非磁性间隙层直到所述刻蚀信号层的平整工序;用于刻蚀所述非磁性间隙层直到利用刻蚀信号检测器来检测到由于所述刻蚀信号层的信号的工序;以及在所述刻蚀之后在所述非磁性间隙层上形成尾屏蔽的工序。
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