[发明专利]紫外固化系统有效
申请号: | 200710087479.7 | 申请日: | 2007-03-19 |
公开(公告)号: | CN101093786A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯;托马斯·诺瓦克;戴尔·R·杜·博伊斯;萨尼夫·巴鲁贾;斯科特·A·亨德里克森;达斯廷·W·胡;安德兹·卡祖巴;汤姆·K·乔;希姆·M·萨德;恩德卡·O·米科蒂 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/3105;C23C16/56 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的实施方式主要涉及一种用于固化沉积于衬底上的介电材料的紫外固化腔室以及利用紫外辐射固化介电材料的方法。根据本发明实施方式的一种衬底处理设备包括限定衬底处理区的主体;在所述衬底处理区内支撑衬底的衬底支架;与所述衬底支架间隔设置的紫外辐射灯,所述灯设计用于向位于所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射;以及运转耦合的电机使所述紫外辐射灯或衬底支架的至少其中之一相对彼此旋转至少180度。所述衬底处理设备还可包括一个或多个反射器,其用于在衬底上产生紫外辐射的泛光图案,所述图案具有高亮度区域和低亮度区域,当旋转时,所述区域结合而产生基本均匀的辐射图案。在本发明中还公开了其他实施方式。 | ||
搜索关键词: | 紫外 固化 系统 | ||
【主权项】:
1.一种衬底处理设备,包括:限定衬底处理区的主体;在所述衬底处理区内用于支撑衬底的衬底支架;紫外辐射灯,其与衬底支架间隔设置,并设计用于向位于所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射;紫外辐射灯包括紫外辐射源和部分包围所述紫外辐射源的主反射器,以及设置于所述主反射器和所述衬底支架之间的副反射器,所述副反射器适用于使不能与衬底接触的紫外辐射改变方向朝向衬底。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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