[发明专利]用于光刻的组合物和方法无效
| 申请号： | 200710087658.0 | 申请日： | 2007-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101042534A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | M·K·噶拉格尔;D·王 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了外涂层组合物，该组合物施涂在光刻胶组合物上面，用于浸渍光刻处理和非浸渍成像。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂敷过的基片，该基片包括：位于基片上的光刻胶组合物层；位于该光刻胶层上面的有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂。
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