[发明专利]基板缓冲装置及方法和处理装置以及控制程序和存储介质有效
申请号: | 200710087680.5 | 申请日: | 2007-03-14 |
公开(公告)号: | CN101038858A | 公开(公告)日: | 2007-09-19 |
发明(设计)人: | 梶原拓伸;坂井光广;柿野彰 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/677;B65G49/06;B65G49/05;B65G49/07;G05B19/04;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种即使基板大型其安全性也高并可避免颗粒物飞散而生产率高且能以想要顺序使退避的多个基板再进出搬送线的基板缓冲装置(36),包括:具有多级能进出搬送线(A)且上下放置搬送线(A)上搬送的基板(G)的载置台(5a~5f)的搁板部(5)和使搁板部(5)升降以使任意载置台(5a~5f)进出搬送线(A)的升降机构(6),各载置台(5a~5f)具有进出搬送线(A)时沿搬送方向搬送基板(G)的输送机构(50a~50f)并作为搬送线(A)的一部分工作,将搬送线(A)搬送的基板(G)放置在进出搬送线(A)的载置台(5a),搁板部(5)由升降机构(6)升降使载置台(5a)与基板(G)从搬送线(A)退避。 | ||
搜索关键词: | 缓冲 装置 方法 处理 以及 控制程序 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种基板缓冲装置,是使在搬送线上朝一个方向搬送的基板暂时从搬送线退避用的基板缓冲装置,其特征在于,包括:上下具有多级能够进出于所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上搬送的基板的载置台、而且能够升降地设置的搁板部;以及使所述搁板部升降,以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构,其中,所述各载置台具有进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构,并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能,在使基板从所述搬送线退避时,在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上放置在所述搬送线上搬送来的基板,在该状态下,所述搁板部通过所述升降机构升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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