[发明专利]用以制造平面显示器的曝光方法和光掩模有效
| 申请号： | 200710087774.2 | 申请日： | 2007-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN101271279A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 王程麒 | 申请（专利权）人： | 奇美电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/039;G03F1/00;G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用以制造平面显示器的曝光方法，包括：提供基板，基板上具有未定义的一光致抗蚀剂层。接着，图案化光致抗蚀剂层，以形成初步图案层，初步图案层具有第一解析度。然后，图案化初步图案层，以形成完整图案层。完整图案层具有第二解析度，且第二解析度高于第一解析度。 | ||
| 搜索关键词： | 用以 制造 平面 显示器 曝光 方法 光掩模 | ||
【主权项】：
1. 一种用以制造平面显示器的曝光方法，包括：提供基板，该基板上具有未定义的光致抗蚀剂层；图案化该光致抗蚀剂层，以形成初步图案层，该初步图案层具有第一解析度；图案化该初步图案层，以形成一完整图案层，该完整图案层具有第二解析度，且该第二解析度高于该第一解析度。
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