[发明专利]位移测量系统、光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200710087890.4 | 申请日： | 2007-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN101042542A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | R·G·克拉维;E·R·鲁普斯特拉;E·A·F·范德帕斯奇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种位移测量系统，其构造成提供对两个部件在六个自由度上的相对位移的测量，其改善了一致性，并且不需要太大的空间。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 测量 系统 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种位移测量系统，包括：(a)第一和第二衍射光栅，所述位移测量系统构造成测量所述第一和第二衍射光栅之间的位移，其中，该测量系统构造成：(i)输入至该测量系统的第一辐射束被第一衍射光栅分成正1级和负1级衍射辐射束；(ii)所述正1级和负1级衍射辐射束被第二衍射光栅进一步衍射，并随后被重新组合以形成第二辐射束；(b)传感器，所述传感器构造成通过确定所述第二辐射束中第一分量与第二分量之间的相位差来确定所述第一和第二光栅之间的相对位移，其中，所述第一分量来源于所述正1级衍射辐射束，所述第二分量来源于所述负1级衍射辐射束；和(c)至少一个线偏振器，所述线偏振器构造成使得所述第二辐射束的所述第一和第二分量在基本上相互垂直的方向上被线偏振。
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