[发明专利]一种包含光罩的装置以及制造该光罩的方法无效
申请号: | 200710088298.6 | 申请日: | 2007-03-22 |
公开(公告)号: | CN101131535A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 林锦鸿;胡清旺;何铭涛 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/14;G03F1/08 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关于一种包含光罩的装置以及制造该光罩的方法。该光罩具有一图样表面及在图样表面上成一透明层。该制造光罩的方法,其包含以下步骤:提供一光罩基材,该光罩基材包含第一材质;图样化该光罩基材以形成一图样表面;以及在该图样表面形成一阻障层,该阻障层包含第一材料。该包含光罩的装置,其包含:一透明层;一图样层,形成在透明层上;以及一光雾减少层,形成在图样层上。本发明可以减少光雾的形成,非常适于实用。 | ||
搜索关键词: | 一种 包含 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造光罩的方法,其特征在于其包含以下步骤:提供一光罩基材,该光罩基材包含第一材质;图样化该光罩基材以形成一图样表面;以及在该图样表面形成一阻障层,该阻障层包含第一材料。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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