[发明专利]存储介质制造方法以及用该制造方法制成的存储介质无效

专利信息
申请号: 200710088765.5 申请日: 2007-03-22
公开(公告)号: CN101271536A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 沈育浓 申请(专利权)人: 沈育浓
主分类号: G06K19/077 分类号: G06K19/077;G11C5/04;H01L21/60
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种存储介质的制造方法包括如下的步骤:把数个存储器单元配置于一个导线架的对应的安装区域,从而使每个存储器单元的存储器的外部接点与对应的安装区域的对应的导线电极电气连接;通过由射出成型处理形成数个各把该导线架之一对应的安装区域包覆的外壳;以及依据安装区域来切割该导线架以形成数个存储介质。
搜索关键词: 存储 介质 制造 方法 以及 制成
【主权项】:
1. 一种存储介质的制造方法,其特征在于包括如下的步骤:提供一个导线架,该导线架具有数个安装区域,每个安装区域具有数个导线电极;提供数个存储器单元,每个存储器单元具有至少一个存储器和一个控制器,该存储器具有一个在其上安装有数个第一外部接点和数个第二外部接点的外部接点安装表面,这些第一外部接点与对应的第二外部接点经由内部电路轨迹来电气连接,该控制器具有一个于其上安装有数个外部接点的外部接点安装表面,该控制器在其外部接点安装表面面向该存储器的外部接点安装表面下以覆晶方式与该存储器连接,从而使该控制器的外部接点与该存储器的对应的第二外部接点电气连接;把这些存储器单元安装于该导线架的对应的安装区域,从而使该存储器单元的存储器的外部接点与对应的导线电极电气连接;通过由射出成型处理形成数个各把该导线架之一对应的安装区域包覆的外壳;以及依据安装区域来切割该导线架以形成数个存储介质。
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