[发明专利]图案缺陷检查装置、图案缺陷检查方法及光掩模的制造方法无效
申请号: | 200710089091.0 | 申请日: | 2007-03-29 |
公开(公告)号: | CN101046624A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
发明(设计)人: | 山口升 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/00;H01L21/027 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种图案缺陷检查装置(10),其检查表面具备单位图案规则排列而构成的重复图案的光掩模(50)的所述重复图案上产生的缺陷,所述图案缺陷检查装置(10)具有:光源装置(12),其以期望的入射角向光掩模(50)的分割检查区域(58)照射光;载物台,其具备支承所述光掩模的支承面;观察装置(13),其接受来自所述光掩模的重复图案的n次衍射光;旋转装置(16),其为了从不同的方向向所述光掩模照射光,而使光源装置的准直透镜(19)在与载物台的支承面平行的面内旋转规定角度。 | ||
搜索关键词: | 图案 缺陷 检查 装置 方法 光掩模 制造 | ||
【主权项】:
1.一种图案缺陷检查装置,其检查表面具备单位图案规则排列而构成的重复图案的被检查体的所述重复图案上产生的缺陷,其特征在于,具有:光源机构,其以期望的入射角向所述被检查体的检查区域照射光;载物台,其具备支承所述被检查体的支承面;观察机构,其接受来自所述被检查体的所述重复图案的衍射光;移动机构,其为了从不同的方向向所述被检查体照射光,或者/以及从不同的方向接受来自所述被检查体的衍射光,而使所述光源机构和所述观察机构的至少之一相对所述载物台移动规定角度。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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