[发明专利]降低叠置偏移的遮罩叠置结构有效
| 申请号： | 200710089388.7 | 申请日： | 2007-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101047165A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 杨金成;黄俊清 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 夏青 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种遮罩叠置图案结构，用于在集成电路制造期间，降低不对称轮廓引起的叠置图案偏移。该遮罩叠置图案结构包含第一遮罩、第二遮罩及应力释放功能装置。第一遮罩用于表示较低层之位置，第二遮罩用于表示较高层之位置，该应力释放功能装置用以释放较高层引起的薄膜应力。不同于一般遮罩叠置图案结构会因薄膜应力产生严重的叠置图案中心偏移，本发明具有数个沟渠围绕切割道，因此，可以改善不对称叠置图案轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 降低 偏移 遮罩叠置 结构 | ||
【主权项】：
1.一种遮罩叠置图案结构，包含：一第一遮罩，以表示一较低层的位置；一第二遮罩，以表示一较高层的位置；以及应力释放功能装置，以释放该较高层引起的应力。
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