[发明专利]静电吸盘无效
| 申请号： | 200710089473.3 | 申请日： | 2007-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101043017A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | 森冈育久;相原靖文;鹤田英芳 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张敬强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种静电吸盘，其能够以良好地特性同时得到晶片的热均匀性和绝缘部件的绝缘性。静电吸盘(1)具有在保持晶片(W)的保持面附近埋设了电极(12)的陶瓷基材(11)。在该陶瓷基材(11)的背面侧设有与电极(12)连接的端子(13)；晶片(W)的温度调节部件(14)；该端子(13)以及温度调节部件(14)的绝缘部件(15)。该绝缘部件(15)在与陶瓷基材(11)相接的端部具有凸缘部(15a)，由高导热性陶瓷构成。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
1.一种静电吸盘，其特征在于，具备：具有与保持基板的保持面大致平行且接近而埋设的电极的陶瓷基材；插入形成于与该陶瓷基材的保持面相反一侧的背面的导通孔中且与上述电极连接的端子；与该陶瓷基材的背面相接的温度调节部件；以及，设置在该端子的周围并对该端子和温度部件进行绝缘的绝缘部件，该绝缘部件在与上述陶瓷基材相接的端部具有凸缘部。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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