[发明专利]组件、调节系统、光刻装置和方法无效
| 申请号： | 200710089703.6 | 申请日： | 2007-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101046637A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | R·范德哈姆;T·A·R·范埃姆佩;H·沃格;N·J·J·罗塞特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种组件，其包括调节系统和可移入和/或移出被调节区域的对象。该调节系统具有向被调节区域提供调节流体的流体出口通道，并构造成根据该对象的位置来调整从该流体出口通道流出的调节流体的流出量。 | ||
| 搜索关键词： | 组件 调节 系统 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包括调节系统和对象的组件，该调节系统包括向被调节区域提供调节流体的流体出口通道，至少部分对象可移入和/或移出该被调节区域，其中，该调节系统构造成根据该对象的位置来调整从该流体出口通道流出的调节流体的流出量。
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