[发明专利]复合型相变化记录薄膜以及用以制造该薄膜的靶材与方法无效

专利信息
申请号: 200710090084.2 申请日: 2007-03-26
公开(公告)号: CN101276617A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: 李仲仁;谢宗雍;赖元章;麦宏全 申请(专利权)人: 光洋应用材料科技股份有限公司
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/26
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种复合型相变化记录薄膜与用以制造该薄膜的靶材,其包括一原子百分比10%至50%的含Te或含Sb相变化材料以及一原子百分比50%至90%的介电材料,上述材料构成100%的复合型相变化记录薄膜或复合靶材;本发明另包含一种用以制造该薄膜的贴靶靶材,其包括一介电材料基材以及一贴合于该介电材料基材表面的含Te或含Sb相变化材料;本发明另包含一种用以制造该薄膜的双靶共溅镀方法,其是以含Te或含Sb相变化材料靶材与介电材料靶材共同进行溅镀。
搜索关键词: 复合型 相变 记录 薄膜 以及 用以 制造 方法
【主权项】:
1. 一种相变化记录薄膜,其特征在于:包括一原子百分比10%至50%的含Te或含Sb相变化材料以及一原子百分比50%至90%的介电材料,上述材料构成100%的相变化记录薄膜。
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