[发明专利]复合型相变化记录薄膜以及用以制造该薄膜的靶材与方法无效
申请号: | 200710090084.2 | 申请日: | 2007-03-26 |
公开(公告)号: | CN101276617A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 李仲仁;谢宗雍;赖元章;麦宏全 | 申请(专利权)人: | 光洋应用材料科技股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种复合型相变化记录薄膜与用以制造该薄膜的靶材,其包括一原子百分比10%至50%的含Te或含Sb相变化材料以及一原子百分比50%至90%的介电材料,上述材料构成100%的复合型相变化记录薄膜或复合靶材;本发明另包含一种用以制造该薄膜的贴靶靶材,其包括一介电材料基材以及一贴合于该介电材料基材表面的含Te或含Sb相变化材料;本发明另包含一种用以制造该薄膜的双靶共溅镀方法,其是以含Te或含Sb相变化材料靶材与介电材料靶材共同进行溅镀。 | ||
搜索关键词: | 复合型 相变 记录 薄膜 以及 用以 制造 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种相变化记录薄膜,其特征在于:包括一原子百分比10%至50%的含Te或含Sb相变化材料以及一原子百分比50%至90%的介电材料,上述材料构成100%的相变化记录薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光洋应用材料科技股份有限公司,未经光洋应用材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710090084.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:过滤型旁通阀总成
- 下一篇:一种汽车排气消声器及其设计方法