[发明专利]图案缺陷检查方法、光掩模制造方法和显示装置基板制造方法有效
| 申请号： | 200710091454.4 | 申请日： | 2007-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN101046625A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 山口升 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种缺陷检查方法，所述缺陷检查方法适于检查在光掩模(50)的主要图案(56)中产生的缺陷。主要图案(56)包括其中周期性排列有单元图案的重复图案。所述方法与主要图案(56)的形成同时形成用于检查的辅助图案(57)。辅助图案(57)包括其周期不同于主要图案(56)的周期的重复图案(51)。所述方法将光线以预定的入射角辐射到辅助图案(57)上，并由观察设备接收由辅助图案(57)所产生的衍射光以检测辅助图案(57)的缺陷，从而确定主要图案(56)的缺陷的存在。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 缺陷 检查 方法 光掩模 制造 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于对检查物体的主要图案中出现的缺陷进行检查的图案缺陷检查方法，所述主要图案包括其中周期性排列有单元图案的重复图案，所述方法包括步骤：在除所述主要图案之外的区域内与形成所述主要图案同时形成用于检查的辅助图案，所述辅助图案包括其周期不同于所述主要图案的周期的重复图案；将光线以预定的入射角辐射到所述辅助图案上；以及由观察装置接收由所述辅助图案所产生的衍射光以检测所述辅助图案的缺陷，从而确定所述主要图案的缺陷的存在。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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