[发明专利]荧光X射线分析设备有效

专利信息
申请号: 200710091970.7 申请日: 2007-03-30
公开(公告)号: CN101046455A 公开(公告)日: 2007-10-03
发明(设计)人: 深井隆行;的场吉毅 申请(专利权)人: 精工电子纳米科技有限公司
主分类号: G01N23/225 分类号: G01N23/225
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 原绍辉;杨松龄
地址: 日本千叶*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了荧光X射线分析设备,其中通过降低附加地生成的且被检测到的X射线而改进了检测下限。荧光X射线分析设备包括照射初级X射线的X射线源,以及检测器,其中在前面内放置了在其中心部分内具有通孔的准直器,且其中通过检测器检测到因以初级X射线照射到样本而从样本生成的且通过准直器的通孔的初级荧光X射线。X射线源和检测器布置为邻接样本,且X射线源或检测器的被因在样本内初级X射线散射的事实生成的初级散射射线和从样本生成的初级荧光X射线所照射到的被照射面被覆盖以次级X射线降低层,从而降低了由初级散射射线和初级荧光X射线的照射生成的次级散射射线和次级荧光X射线。
搜索关键词: 荧光 射线 分析 设备
【主权项】:
1.一种荧光X射线分析设备,其具有照射初级X射线的X射线源,以及检测器,其中在前面内放置了在其中心部分内具有通孔的准直器,且其中当初级X射线已从X射线源照射到样本时,从样本生成且通过准直器的通孔的初级荧光X射线被检测器检测到,其中X射线源和检测器布置为邻接样本,且X射线源或检测器的被因在样本内初级X射线散射的事实所生成的初级散射射线和从样本生成的初级荧光X射线照射到的被照射面被覆盖以次级X射线降低层,从而降低了由初级散射射线和初级荧光X射线的照射生成的次级散射射线和次级荧光X射线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工电子纳米科技有限公司,未经精工电子纳米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710091970.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top