[发明专利]荧光X射线分析设备有效
申请号: | 200710091970.7 | 申请日: | 2007-03-30 |
公开(公告)号: | CN101046455A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
发明(设计)人: | 深井隆行;的场吉毅 | 申请(专利权)人: | 精工电子纳米科技有限公司 |
主分类号: | G01N23/225 | 分类号: | G01N23/225 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 原绍辉;杨松龄 |
地址: | 日本千叶*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供了荧光X射线分析设备,其中通过降低附加地生成的且被检测到的X射线而改进了检测下限。荧光X射线分析设备包括照射初级X射线的X射线源,以及检测器,其中在前面内放置了在其中心部分内具有通孔的准直器,且其中通过检测器检测到因以初级X射线照射到样本而从样本生成的且通过准直器的通孔的初级荧光X射线。X射线源和检测器布置为邻接样本,且X射线源或检测器的被因在样本内初级X射线散射的事实生成的初级散射射线和从样本生成的初级荧光X射线所照射到的被照射面被覆盖以次级X射线降低层,从而降低了由初级散射射线和初级荧光X射线的照射生成的次级散射射线和次级荧光X射线。 | ||
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【主权项】:
1.一种荧光X射线分析设备,其具有照射初级X射线的X射线源,以及检测器,其中在前面内放置了在其中心部分内具有通孔的准直器,且其中当初级X射线已从X射线源照射到样本时,从样本生成且通过准直器的通孔的初级荧光X射线被检测器检测到,其中X射线源和检测器布置为邻接样本,且X射线源或检测器的被因在样本内初级X射线散射的事实所生成的初级散射射线和从样本生成的初级荧光X射线照射到的被照射面被覆盖以次级X射线降低层,从而降低了由初级散射射线和初级荧光X射线的照射生成的次级散射射线和次级荧光X射线。
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