[发明专利]多比特机电存储器件及其制造方法无效
申请号: | 200710092021.0 | 申请日: | 2007-04-04 |
公开(公告)号: | CN101132005A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 李成泳;金洞院;朴东健;尹恩贞 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L23/522;H01L21/8247;H01L21/768 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 戎志敏 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在存储器件及其形成方法中,在一个实施例中,存储器件包括:衬底;以及衬底上沿第一方向延伸的位线。将第一字线结构设置在位线上并且与位线间隔且绝缘,第一字线结构沿横穿第一方向的第二方向延伸。电极与位线相连,在第一字线结构之上延伸并且与第一字线结构间隔第一间隙。第二字线结构在电极之上并且与电极间隔第二间隙,第二字线结构沿第二方向延伸。电极在第一字线结构和第二字线结构之间是悬臂形式的,使得电极偏转以通过第一间隙与在第一弯曲位置第一字线结构的顶部电连接,以及偏转以通过第二间隙在第二弯曲位置与第二字线结构的底部电连接,并且电极在止动位置与第一字线结构和第二字线结构相隔离。 | ||
搜索关键词: | 比特 机电 存储 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种存储器件,包括:衬底;位线,在衬底上沿第一方向延伸;第一字线结构,在位线上并且与位线间隔且绝缘,第一字线结构沿横穿第一方向的第二方向延伸;电极,与位线相连,在第一字线结构之上延伸,并且与第一字线结构间隔第一间隙;以及第二字线结构,在电极之上并且与电极间隔第二间隙,第二字线结构沿第二方向延伸,其中,电极在第一字线结构和第二字线结构之间是悬臂形式的,使得电极偏转以通过第一间隙在第一弯曲位置与第一字线结构的顶部电连接,以及偏转以通过第二间隙在第二弯曲位置与第二字线结构的底部电连接,并且电极在止动位置与第一字线结构和第二字线结构相隔离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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