[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法有效
| 申请号： | 200710093622.3 | 申请日： | 2007-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN101045232A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 平冈伸康;奥村刚;仲野彰义;宇贺神肇 | 申请（专利权）人： | 大日本网目版制造株式会社;索尼株式会社 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B08B1/04;B08B7/04;B08B3/04;H01L21/00;H01L21/30;H01L21/306;H01L21/67;H01L21/304;G11B7/26 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王玉双 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本网目版制造株式会社;索尼株式会社，未经大日本网目版制造株式会社;索尼株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710093622.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：燃料电池系统
- 下一篇：含达玛烷型四环三萜类皂苷的中药提取物及用途
