[发明专利]平滑规则式光学临近修正光掩膜图形的方法

摘要

本发明公开了一种平滑规则式光学临近修正光掩膜图形的方法，该方法通过在进行常规规则式光学临近修正光掩膜图形后，增加一个步骤：在密集图形区和孤立图形区连接处台阶所在的修正片断为基准片断，将与其相邻的至少两个连续的修正片断的修正量调整为介于其前一个修正片断的修正量和其后一个修正片断的修正量之间的值，以减少相邻两个修正片断间修正量的差异。通过本发明的方法，可以得到一平滑的曝光图形，并不需要增加很多计算机运行时间，可广泛适用于规则式光学临近修正操作中。

主权项

1、一种平滑规则式光学临近修正光掩膜图形的方法，包括在采用规则式光学临近修正方法修正光掩膜图形，得到初步修正的光掩膜图形，该光掩膜图形中的密集图形区和孤立图形区连接处有突变的台阶，其特征在于，该方法还包括以下步骤：以所述密集图形区和所述孤立图形区连接处台阶所在的修正片断为基准片断，将与所述基准片断相邻的至少两个连续的修正片断的修正量调整为介于其前一个修正片断的修正量和其后一个修正片断的修正量之间的值，以减少相邻两个修正片断间修正量的差异。