[发明专利]光刻导轨设备中分立式热板系统无效
申请号: | 200710094134.4 | 申请日: | 2007-10-12 |
公开(公告)号: | CN101408738A | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | 王雷;黄玮 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/38 | 分类号: | G03F7/38;G03F7/40;G03F7/26 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾继光 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻导轨设备中分立式热板系统。和现有的普通单一热板不同,本发明由许多分立的可以单独控制温度的热板组合形成。因为光刻工艺的表现和热板温度有直接联系,通过分立式热板对硅片不同区域分别加热,局部控温精度更好而且整体分布可控。使用了本发明的分立式热板系统后,可以大大提高光刻工艺中涂胶、显影工艺的硅片面内均一性,尤其对于越大尺寸的硅片效果越明显。同时通过分立式热板系统可以分区域控温,通过加热冷却来升高或降低热板温度以影响光刻工艺的特性,可以通过在光刻工艺中引入温度分布来降低前工程(如薄膜成长,化学机械抛光等)引入的硅片不均匀导致的光刻工艺窗口缩小,从而增加了光刻工艺窗口。 | ||
搜索关键词: | 光刻 导轨 设备 中分 立式 系统 | ||
【主权项】:
1、一种光刻导轨设备中分立式热板系统,其特征在于,该分立式热板系统由数个各自能被加热或冷却的分立的热板组成。
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