[发明专利]降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法

摘要

本发明公开了一种降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法，通过在同一曝光单元四周产生对称的光刻套刻图形，可测量出曝光单元上下左右各位置由于镜头畸变而产生的位置变化；然后，根据光刻机镜头畸变调整精度要求，选择合适的光刻套刻模型计算出镜头畸变量，并在每次曝光时通过光刻对准参数的补正来修正畸变量；从而实现了降低光刻机镜头畸变所引起的光刻对准偏差，提高光刻对准精度的目的；同时，该方法使得不同产品在不同光刻机上找到了一个简单的匹配标准，从而使得不同镜头表现的光刻机最终产出的产品能够保持统一性，从而大大提高了生产力；并且，这种方法易于实现，成本较低。

主权项

1、一种降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法，其特征在于，包括以下步骤：在设计版图时，在曝光单元(21)的上下左右四周共放置至少四组测量图形，其中每组测量图形包括一外框(22)和一内框(23)，所述外框(22)和内框(23)分别对称放置在所述曝光单元(21)的上下或者左右的两边；通过分步重复光刻机对光刻曝光单元进行重复曝光，在一曝光单元四周上、下、左、右四个边界的每边均至少形成一个光刻套刻测量图形；通过所述光刻套刻测量图形，测量出所述曝光单元上下左右各位置分别在X、Y方向上的偏移量；根据光刻机镜头畸变调整精度要求，选择光刻套刻模型，然后基于所述各个偏移量，计算出多个用于表示光刻机镜头畸变量的光刻对准参数的大小；在每次曝光时，通过对所述光刻对准参数进行补正的方式，修正所述光刻机镜头的畸变量。