[发明专利]验证非对称高压场效应管漂移区电阻的方法有效
申请号: | 200710094414.5 | 申请日: | 2007-12-10 |
公开(公告)号: | CN101459093A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | 王正楠 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G06F17/50 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周 赤 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种验证非对称高压场效应管漂移区电阻的方法,通过对非对称高压场效应管的纵向结构改进,形成一寄生双极型晶体管,根据寄生三极管特性,采用高频精确测试基区电阻的方法,通过源端和漂移区两端加高频率信号,根据所测到的S11数据用双极型晶体管的模型公式来推算出漂移区的电阻值,从而验证直流测试和高压场效应管模型提取的电阻值是否正确。 | ||
搜索关键词: | 验证 对称 高压 场效应 漂移 电阻 方法 | ||
【主权项】:
1、一种验证非对称高压场效应管漂移区电阻的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将非对称高压场效应管中的源、漏端注入杂质替换成和漂移区同极性的注入杂质,形成一个寄生双极型晶体管,然后源端用金属线引出作为寄生双极型晶体管的发射极,漏端用金属线引出作为寄生双极型晶体管的集电极,漂移区用金属线引出作为寄生双极型晶体管的基极;(2)通过在寄生双极型晶体管的发射极和基极施加从低频到高频的扫描信号,来测试从低频到高频的从基极到发射极串连阻抗的变化;(3)根据从低频扫描到高频所测得的阻抗变化曲线,通过圆的解析公式来描绘阻抗曲线,根据公式外推频率达到无穷大以后的阻抗变化,再利用双极型模型公式推算出漂移区电阻值;(4)将在线测量取得的非对称高压场效应管漂移区电阻同上述方法取得的非对称高压场效应管漂移区电阻比对,验证在线测量取得的非对称高压场效应管漂移区电阻的合理性。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造