[发明专利]光学临近修正、光掩模版制作及图形化方法有效
| 申请号： | 200710094461.X | 申请日： | 2007-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN101458446A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 程仁强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 丽 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光学临近修正方法，包括：确定布局接触孔图形位于器件密集区、器件稀疏区还是器件孤立区；增大器件稀疏区及器件孤立区的布局接触孔图形的临界尺寸。本发明还提供一种光掩模版制作方法及图形化方法。本发明防止由于器件密集及临界尺寸的增大造成接触孔间的桥接，进而有效解决器件间的短路现象。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 临近 修正 模版 制作 图形 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光学临近修正方法，其特征在于，包括：确定布局接触孔图形位于器件密集区、器件稀疏区还是器件孤立区；增大器件稀疏区及器件孤立区的布局接触孔图形的临界尺寸。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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