[发明专利]光学近距修正及制作光掩模版的方法

摘要

一种光学近距修正的方法，包括：将布局电路图形的各边分割成尺寸为曝光工艺临界尺寸80％～120％的第一分割边......第N分割边；分别对第一分割边......第N分割边进行修正，获得对应的修正边，并计算修正边的边缘设置误差；如果所有相邻修正边的边缘设置误差的差值大于预定值，对各修正边进行再次修正，获得对应的再次修正边，并计算再次修正边对应边缘设置误差；如果有相邻修正边的边缘设置误差的差值小于等于预定值，合并相邻修正边，形成合并修正边，与未合并的修正边进行再次修正，得到对应的再次修正边，并计算再次修正边的边缘设置误差；重复上述步骤，至修正满足预定次数，结束修正。本发明降低了制作光掩模版的时间，提高了效率。

主权项

1. 一种光学近距修正的方法，其特征在于，包括下列步骤：将布局电路图形的各边分割成尺寸为曝光工艺临界尺寸80％～120％的第一分割边、第二分割边......第N分割边；分别对第一分割边、第二分割边......第N分割边进行修正，获得对应的修正边，并计算修正边的边缘设置误差；将第一分割边、第二分割边......第N分割边的修正边的边缘设置误差进行比较；如果所有相邻修正边的边缘设置误差的差值大于预定值，对各修正边进行再次修正，获得对应的再次修正边，并计算再次修正边对应边缘设置误差；如果有相邻修正边的边缘设置误差的差值小于等于预定值，合并相邻修正边，形成合并修正边，与未合并的修正边进行再次修正，得到对应的再次修正边，并计算再次修正边的边缘设置误差；重复上述步骤，至修正满足预定次数，结束修正。