[发明专利]多光罩平台的曝光系统及曝光方法

摘要

本发明公开了一种多光罩平台的曝光系统，该系统包括多光罩平台、至少一个曝光平台及位于曝光平台和光罩平台之前的透镜。曝光平台用于放置切换硅片并进行硅片对准、曝光；多光罩平台用于光罩切换、对准，该多光罩平台是两个以上的光罩平台或者装载多块光罩的一个光罩平台。此外，本发明还公开了上述多光罩平台的曝光方法。本发明利用多个光罩平台，在硅片进行曝光的同时，在其他未进行曝光的光罩平台进行光罩的切换和对准，大大缩短了整个曝光流程所需时间。当使用一个光罩平台搭载多块光罩时，只需要进行一次光罩和硅片的对准，节约了对准的时间，从而提高了光刻机的曝光速度，提高了光刻机的生产能力。

主权项

1、一种多光罩平台的曝光系统，其特征在于，包括：用于放置切换硅片并进行硅片对准、曝光的至少一个曝光平台；用于光罩切换、对准的多光罩平台，该多光罩平台是两个以上的光罩平台或者装载多块光罩的一个光罩平台；位于曝光平台和光罩平台之前的透镜。