[发明专利]像素结构及其的形成方法

摘要

本发明提供一种像素结构及其的形成方法，该像素结构包含至少一晶体管、一第一储存电容、一第一导电层、一内层介电层、一第二导电层、一保护层及一第三导电层。第一储存电容电性连接于晶体管。内层介电层覆盖于第一导电层上，且其具有至少一第一开口。第二导电层形成于部分内层介电层上，且经由第一开口电性连接于第一导电层。保护层覆盖于晶体管及第二导电层上，且其具有至少一第二开口。第三导电层形成部分保护层上，且经由第二开口电性连接于晶体管。第一储存电容由第三导电层、保护层及第二导电层所构成。本发明可在不变更电容值的情况下增加开口率。

主权项

1.一种像素结构，其特征在于，所述像素结构包含：至少一晶体管；一第一储存电容，电性连接于所述晶体管；一第一导电层；一内层介电层，覆盖于所述第一导电层上，且其具有至少一第一开口；一第二导电层，形成于部份所述内层介电层上，且经由所述第一开口电性连接于所述第一导电层；一保护层，覆盖于所述晶体管及所述第二导电层上，且其具有至少一第二开口；以及一第三导电层，形成部份所述保护层上，且经由所述第二开口电性连接于所述晶体管，其中，所述第一储存电容，由所述第三导电层、所述保护层及所述第二导电层所构成。