[发明专利]图案形成装置及图案形成方法无效

专利信息
申请号: 200710096856.3 申请日: 2007-04-05
公开(公告)号: CN101069881A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 杉浦好典;西川潤;中岡良一;金田知佳;原田昭人 申请(专利权)人: 井上株式会社;巨腾国际控股有限公司;三有限公司
主分类号: B05D3/00 分类号: B05D3/00;B05D5/00;C09D5/23;C09D4/00
代理公司: 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 代理人: 丁宪杰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在涂膜上形成图案的情况下,含有磁性体的涂料涂覆到被涂饰物上,形成涂膜,沿着该涂膜的表面,配置有多个片状磁铁。相邻的片状磁铁,以片状磁铁的侧面互相接触的状态配置,以使其表面的磁极和背面的磁极各不相同。涂料含有热塑性树脂、扁平状磁性体、特定的低沸点溶剂和高沸点溶剂。借助片状磁铁给涂膜外加磁场,在该磁场作用下,涂膜中的磁性体取向,在片状磁铁的接触部位上,磁性体大致平行于涂膜表面取向。此时,光被涂膜中的磁性体反射,形成图案。
搜索关键词: 图案 形成 装置 方法
【主权项】:
1、一种图案形成装置,其特征在于:相邻的多个呈片状的磁铁的表面及背面的磁极,以在相邻的片状磁铁之间各不一样的形式,各片状磁铁的侧面互相接触;沿着通过含有扁平状磁性体的涂料涂覆到被涂饰物上而形成的涂膜表面,配置有上述多个片状磁铁;借助该许多片状磁铁,给涂膜外加磁场;在该磁场作用下,上述涂膜中的磁性体取向,在各片状磁铁的接触部位上,磁性体大致平行于涂膜表面取向;至少借助各片状磁铁接触部位上的磁性体,在涂膜上形成图案。
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