[发明专利]可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 200710097527.0 | 申请日： | 2007-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN101058486A | 公开（公告）日： | 2007-10-24 |
| 发明（设计）人： | 王烁;徐伯永 | 申请（专利权）人： | 天津南玻工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;C03C17/23 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 30170*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种镀膜玻璃，该镀膜玻璃按如下顺序包括：玻璃基片；在玻璃基片上的第一基层电介质层；在第一基层电介质层上的第二基层电介质层；在第二基层电介质层上的第一保护阻隔层；在第一保护阻隔层上的银层；在银层上的第二保护阻隔层；在第二保护阻隔层上的第一外层电介质层；在第一外层电介质层上的第二外层电介质层；在第二外层电介质层上的保护阻挡层。 | ||
| 搜索关键词： | 热处理 磁控溅射 方法 制备 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜玻璃，该镀膜玻璃按如下顺序包括：1)玻璃基片；2)在玻璃基片上的第一基层电介质层；3)在第一基层电介质层上的第二基层电介质层；4)在第二基层电介质层上的第一保护阻隔层；5)在第一保护阻隔层上的银层；6)在银层上的第二保护阻隔层；7)在第二保护阻隔层上的第一外层电介质层；8)在第一外层电介质层上的第二外层电介质层；9)在第二外层电介质层上的保护阻挡层。
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