[发明专利]曝光装置无效
| 申请号： | 200710097944.5 | 申请日： | 2007-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN101063828A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 富樫工;宫下正弘 | 申请（专利权）人： | 日本精工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨本良;文琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种可使曝光装置小型化、有效利用工厂等的设置空间，并且可降低曝光装置的制造成本的曝光装置，其中，曝光装置(PE101)并列配置有多个曝光单元(1000A、1000B)，具有：收容多个掩模(M)的掩模储料器(171)；以及从掩模储料器(171)将预定的掩模M提供到掩模台(110A、110B)的一台掩模装载机(170)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，具有：并列配置的多个曝光单元，其具有：保持作为被曝光材料的基板的基板台；与所述基板相对配置并保持掩模的掩模台；通过所述掩模将图案曝光用的光照射到所述基板的照射装置；以及移动所述基板台，使所述基板与所述掩模在预定位置相对的基板台传送机构；收容多个所述掩模的掩模储料器；以及从所述掩模储料器将预定的所述掩模提供到所述掩模台的一台掩模装载机。
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