[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 200710097997.7 | 申请日： | 2007-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN101105635A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 厚见辰则;近藤俊之;中村刚 | 申请（专利权）人： | 日本精工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B27/14 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨本良;文琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种能在确保安全性的同时进行短时间内的步进动作，从而能使生产量提高的曝光装置及曝光方法。曝光装置(PE)的控制装置(80)以使Z轴输送台(2A)的垂直方向的相对移动与工件装载台输送机构(2B)的水平方向的相对移动同步的方式控制Z轴输送台(2A)及工件装载台输送机构(2B)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，具有：保持作为被曝光件的基板的工件装载台；与所述基板相对配置并保持掩模的掩模装载台；将图案曝光用的光通过所述掩模照射到所述基板的照射单元；使所述工件装载台和所述掩模装载台中的一个相对另一个沿水平方向及垂直方向相对移动、以使所述掩模的掩模图案与所述基板上的多个规定位置相对的输送机构；及控制所述输送机构的控制装置，其特征在于，所述控制装置控制所述输送机构，以使所述输送机构的所述水平方向的相对移动和所述垂直方向的相对移动同步。
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