[发明专利]一种全息消像差方法及其投影光刻系统

摘要

一种全息消像差方法，利用全息照明技术在特定条件下曝光，将光刻中照明信息，投影物镜调制信息以及掩模版位相调制信息同时记录在全息干板上。曝光后的全息干板替代现有技术的掩模版以及照明系统，采用共轭再现方式，令再现后的共轭光波再次进入投影物镜，补偿投影物镜在成像过程中引入的像差。携带有掩模调制信息、投影物镜倍缩信息和照明信息的光束令光刻胶曝光，完成光刻曝光过程。应用本发明方法的投影光刻系统，包括激光器[1]、光闸门[2]、照明系统[3]、偏振控制装置[4]投影物镜[5]扩束装置[6]、掩模版[7]全息干板[8]、分光镜[9]、抗蚀剂硅片[15]、硅片工作台[16]与反射镜[10、11、12、13、14]。

主权项

1.一种全息消像差方法，其特征在于：首先利用全息照明技术在特定条件下曝光，将光刻中照明信息，投影物镜调制信息以及掩模版位相调制信息同时记录在全息干板上；投影物镜的调制信息中包含了对光束的倍缩信息以及成像过程中的像差信息；利用曝光后的全息干板替代传统投影光刻中的掩模版以及照明系统，采用共轭再现方式，令再现后的共轭光波再次进入投影物镜，补偿了投影物镜在成像过程中引入的像差；携带有掩模调制信息、投影物镜倍缩信息和照明信息的光束最终令光刻胶曝光，从而完成了光刻曝光过程。