[发明专利]红光铝镓铟磷半导体激光器光纤耦合模块的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710099864.3 申请日: 2007-05-31
公开(公告)号: CN101316025A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 徐云;陈良惠;张玉芳;宋国峰;李玉璋;种明;郑婉华;曹青 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/00 分类号: H01S5/00;G02B6/42
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体激光器技术领域,公开了一种红光铝镓铟磷半导体激光器光纤耦合模块的制备方法,包括:在N型镓砷衬底上依次制备镓砷缓冲层和镓铟磷缓冲层;在镓铟磷缓冲层上依次制备铝镓铟磷限制层、光波导层和有源层,并形成分别限制异质结构;在外延片上光刻腐蚀出光台面;在出光台面上淀积电绝缘膜;在电绝缘膜上制备P面电极;对N型衬底减薄抛光后制备N面电极;将具有P、N电极的片子解理成条作为激光器的谐振腔面,并在激光器前后腔面蒸镀增透膜和高反膜;将单管芯激光器烧结到铜热沉上;采用柱透镜压缩半导体激光器的垂直发散角;采用自聚焦透镜将半导体激光器的光束压缩聚焦并耦合到多模光纤中。本发明利于制备大功率的半导体激光器。
搜索关键词: 红光 铝镓铟磷 半导体激光器 光纤 耦合 模块 制备 方法
【主权项】:
1、一种红光铝镓铟磷半导体激光器光纤耦合模块的制备方法,其特征在于,该方法包括:A、在N型镓砷衬底上依次制备镓砷缓冲层和镓铟磷缓冲层;B、在镓铟磷缓冲层上依次制备铝镓铟磷限制层、光波导层和有源层,并形成分别限制异质结构;C、在外延片上光刻腐蚀出光台面;D、在出光台面上淀积电绝缘膜;E、在电绝缘膜上制备P面电极;F、对N型衬底减薄抛光后制备N面电极;G、将具有P、N电极的片子解理成条作为激光器的谐振腔面,并在激光器前后腔面蒸镀增透膜和高反膜;H、将单管芯激光器烧结到铜热沉上;I、采用柱透镜压缩半导体激光器的垂直发散角;J、采用自聚焦透镜将半导体激光器的光束进一步压缩聚焦并耦合到多模光纤中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710099864.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top