[发明专利]聚合物薄膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 200710100694.6 申请日: 2007-03-19
公开(公告)号: CN101049736A 公开(公告)日: 2007-10-10
发明(设计)人: 新井利直;山崎英数 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B29C69/02 分类号: B29C69/02;B29C41/24;B29C55/08;B29C71/00;B29L7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 通过在表面冷却的流延鼓上流延包括聚合物和溶剂的涂布漆制造流延薄膜。流延薄膜通过冷却凝固变得具有自支承性能,然后作为湿薄膜从流延鼓剥离。将湿薄膜供入销钉式拉幅机中,在所述的销钉式拉幅中,通过多个销钉固定湿薄膜的两个侧边。将湿薄膜在通过销钉式拉幅机输送的同时干燥,以变成薄膜。然后,将具有预定X射线衍射强度的薄膜供入夹具式拉幅机中。在输送两个侧边被夹具固定的薄膜的同时,沿其宽度方向以15%至40%范围的拉伸率将它拉伸,以控制薄膜中的分子取向。
搜索关键词: 聚合物 薄膜 制造 方法
【主权项】:
1、一种聚合物薄膜的制造方法,该方法包括以下步骤:在支持体上流延包括聚合物和溶剂的涂布漆以形成流延薄膜;在所述流延薄膜具有自支承性能之后,将所述流延薄膜作为湿薄膜从所述支持体剥离;干燥所述湿薄膜使其成为所述聚合物薄膜,在通过将入射X射线延长线和反射X射线之间的角确定为2θ(°)的反射法获得的X射线分析图中,当K1是在0≤2θ≤10范围的X射线衍射强度最大值,并且K2是在10≤2θ≤20范围的X射线衍射强度最大值时,所述聚合物薄膜满足K2≤K1;和沿所述聚合物薄膜宽度方向以15%到40%范围的拉伸率拉伸所述聚合物薄膜。
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