[发明专利]抗反射膜制备方法和装置无效
| 申请号： | 200710101072.5 | 申请日： | 2007-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN101063720A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 下田一弘;西村浩和;佐藤信 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B32B7/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率。制备这种抗反射膜的抗反射膜制备装置包含：涂布机，所述涂布机使用形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层。干燥机促进所述涂层的干燥。加热器使来自所述干燥机的所述涂层在第一温度水平硬化，然后使所述涂层在高于第一温度水平的第二温度水平硬化以形成所述低折射率层。优选地，所述第一和第二温度水平之差为1－50℃。而且，在所述加热器的所述硬化之后，对所述低折射率层施加紫外线。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种制备抗反射膜的抗反射膜制备方法，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率，所述抗反射膜制备方法包括：使用用于形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层的涂布步骤；促进所述涂层干燥的干燥步骤；在促进干燥之后，使所述涂层热硬化以形成所述低折射率层的硬化步骤；所述硬化步骤包括：在用于硬化的第一温度水平加热所述涂层的第一加热步骤；在高于所述第一温度水平的用于硬化的第二温度水平加热所述涂层的第二加热步骤。
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