[发明专利]像素及其形成方法、存储电容、显示面板及光电装置有效

专利信息
申请号: 200710101078.2 申请日: 2007-04-26
公开(公告)号: CN101047194A 公开(公告)日: 2007-10-03
发明(设计)人: 郑逸圣 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1362
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种像素及其形成方法,以及一种存储电容、显示面板及光电装置。存储电容设置于基板上,此存储电容包括半导体层、第一介电层、第一导电层、第二介电层以及第二导电层。其中半导体层设置于基板上,第一介电层则覆盖半导体层及基板,第一导电层部分设置于第一介电层上。第二介电层设置于第一导电层上,且第二介电层与第一导电层的侧边具有一斜度。而第二导电层则部分设置于第二介电层上。本发明可以提升存储电容的电容值,并保持像素呈像的稳定性。
搜索关键词: 像素 及其 形成 方法 存储 电容 显示 面板 光电 装置
【主权项】:
1.一种存储电容,设置于基板上,包括:至少一半导体层,设置于该基板上;至少一第一介电层,覆盖该半导体层及该基板;至少一第一导电层,设置于部分第一介电层上;至少一第二介电层,设置于该第一导电层上,该第二介电层与该第一导电层的堆叠侧边实质上具有斜度;以及至少一第二导电层,设置于部分第二介电层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710101078.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top