[发明专利]半导体器件及其制造方法有效
申请号: | 200710102490.6 | 申请日: | 2007-04-27 |
公开(公告)号: | CN101064321A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 川俣郁子;荒井康行 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L21/84;H01L21/76;H01L21/336 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 李玲 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种高度可靠的半导体器件及该半导体器件的制造方法,其中可防止诸如栅电极层与半导体层之间的短路以及漏电流之类的或者由于半导体层对绝缘层的覆盖缺陷而导致的缺陷。为了在绝缘表面上形成多个半导体元件,不将半导体层分为多个岛形半导体层,相反,在一层半导体层中形成使用作半导体元件的多个元件区电绝缘的元件隔离区,即,具有高电阻的第一元件隔离区和与元件区接触并具有与元件区的源和漏区的导电类型相反的导电类型的第二元件隔离区。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:设置在绝缘表面上的半导体层,并包括:元件区,它包括源区、漏区和沟道形成区;第一元件隔离区,它含有从由氧、氮和碳组成的组中选出的至少一种第一杂质元素,并与第二元件隔离区接触;以及第二元件隔离区,它含有向所述第二元件隔离区提供与所述源区和所述漏区的导电类型相反的导电类型的第二杂质元素,并与所述元件区接触,其中所述第一元件隔离区具有比所述沟道形成区低的结晶度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710102490.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:烟道式油烟净化器
- 下一篇:液晶显示器及其阵列基板
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的