[发明专利]检测并校正半导体装置的方法有效
| 申请号： | 200710102543.4 | 申请日： | 2007-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN101308517A | 公开（公告）日： | 2008-11-19 |
| 发明（设计）人： | 郑仪侃;赖志明;刘如淦 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种检测并校正半导体装置的方法。该方法用以得到布局。该方法包括，将第一热点规则组合应用在整体布线，以产生详细布线；将第二热点规则组合应用在该详细布线，以产生后详细布线；以及将第三热点规则组合应用在该后详细布线，以产生该布局。在其它方法，该方法包括提供电路设计，将第一热点滤除器应用在该电路设计的整体布线中，以产生详细布线；将第二热点滤除器应用在详细布线，以产生后详细布线；以及对该后详细布线执行rip－up以及重新布线，以产生布局。本发明的系统及方法可确认并校正半导体装置的热点，因此，可以降低成本及制造半导体装置的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 校正 半导体 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：提供电路设计；提供第一热点滤除器，该第一热点滤除器具有第一热点规则；将该第一热点滤除器应用在该电路设计的整体布线，以产生详细布线；提供第二热点滤除器，该第二热点滤除器具有第二热点规则，该第二热点滤除器的最长时间小于该第一热点滤除器的最长时间；将该第二热点滤除器应用在该详细布线，以产生后详细布线；以及对该后详细布线执行rip-up以及重新布线，以产生布局。
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