[发明专利]层积体及其制造方法、定影带、定影装置和成像装置有效
| 申请号： | 200710103879.2 | 申请日： | 2007-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN101134384A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 为政博史 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | B32B15/04 | 分类号： | B32B15/04;B32B27/06;B32B25/04;G03G15/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰;谢栒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种层积体及其制造方法、定影带、定影装置和成像装置。所述层积体包括金属层；和设置在所述金属层的至少一面上的树脂层或弹性层。其中，所述金属层包含导电金属层和设置在所述导电金属层的两面上的金属氧化物层。 | ||
| 搜索关键词： | 层积 及其 制造 方法 影带 定影 装置 成像 | ||
【主权项】：
1.一种层积体，所述层积体包括：金属层，所述金属层包含导电金属层和设置在所述导电金属层的两面上的金属氧化物层；和设置在所述金属层的至少一面上的树脂层或弹性层。
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