[发明专利]描图系统

摘要

本发明提供一种描图系统，从而在描图处理中，不必根据know－how的知识的设定而形成适当的描图图案。根据预设的发光长度，根据二个式子而算出曝光动作间距(Epm)及扫瞄速度(Vm)。然后，在各种曝光量与发光长度以及与其对应的扫瞄速度与曝光动作间距中，对应于所选择的曝光量及发光长度而决定扫瞄速度及曝光动作间距，并将其作为曝光参数而在描图处理中做设定。

主权项

1.一种描图系统，该描图系统使用复数个光调变组件规则性的沿着扫瞄方向上配置排列的光调变单元，由上述光调变单元的曝光范围对于被描图体以一定速度相对性的做扫瞄，以某曝光动作时间间隔实施曝光动作使各光调变组件的曝光范围域重叠，该描图系统的特征在于，该描图系统包括：计算装置，其根据相对于上述被描图体的曝光范围的相对性的扫瞄速度、表示以上述扫瞄速度在上述曝光动作时间间隔之间上述曝光范围移动的距离的曝光动作间距、在照射光实际上对上述被描图体照射的期间上述曝光范围移动的发光延续距离中预设的任一参数，从上述曝光动作间距、上述扫瞄速度、上述发光延续距离之间的关系式除去上述一参数而计算出剩下的二个参数；以及曝光参数设定装置，其将预设及上述计算装置所算出的扫瞄速度、曝光动作时间间隔、发光延续距离作为描图处理的曝光参数而设定，其中上述计算装置满足两条件式解出而计算出上述剩下的二个参数，两条件式包括一第1式及一第2式，第1式系表示根据描图系统的光源及曝光用光学系的特性而决定的到达被描图体的到达照射光量系满足对应于上述被描图体的感光材料特性而决定的曝光量的条件式，相对于上述扫瞄速度，上述发光延续距离成正比，而上述曝光动作间距成反比，第2式系表示关于描图处理的数据处理速度的限制而规定的条件式，相对于上述扫瞄速度，上述曝光动作间距成正比的关系。